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鈦靶

鈦靶

  • 所屬分類:鈦材料
  • 瀏覽次數:
  • 發布日期:2020-07-09 16:02:35
  • 產品概述
  • 性能特點
  • 技術參數

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度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,矽片尺寸由6”, 8“發展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而製備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。

靶材固體中的雜質和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要汙染源。不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。例如,半導體工業用的純鋁及鋁合金靶材,對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。

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